前沿导读
据环球网新闻报道，林楠博士带领团队成功开发出了LPP-EUV光源，林楠博士是前ASML研究部科学家，也是中国科学院上海光机所的，该团队绕过了二氧化碳激光器，使用的是固态激光器技术，这对中国发展自主光刻机产品而言又推进了一大步。
回国发展
林楠博士曾在荷兰ASML公司任职，担任研究部研发科学家，据林楠博士在观察者网举办的心智对话节目中透露，当初林博士经过了11轮面试，之后才正式进入ASML公司，担任技术工程师。
在面试期间，ASML会向相关面试人员提出一些技术难题，林楠博士借助与技术团队合作，最终化解了公司给出的技术问题，从而被ASML顺利录用。
可以说，林楠博士在光学技术方面具备专业性极强的技术能力，拥有丰富的行业知识，在光刻机设备的核心光源领域，有着丰富的技术研发经验，是一名名副其实的顶级光学工程师。
在谈论技术创新时，林楠博士称，ASML能成为当前国际光刻机产业的领导者，是因其公司人员对技术创新执着，且公司注重多领域技术学科深度融合，遇到技术难题时，多个领域的研发人员会聚集共同解决，这是其成功的基础 。
林楠博士着重指出，仅有研发人员是不行的，政府在政策方面需予以扶持，在资金方面要给予支持，还需要一些具备前瞻性眼光的领导 。
ASML的首席技术官是马丁·范登布林克，林博士称马丁是一位领导，他愿意与研发人员深入探讨技术本身。作为大企业的领导，他还愿意拿出很多时间与一线研发人员进行技术深度交流，这是值得我们中国企业乃至世界企业学习的榜样。
2021年，林楠博士从ASML离职，之后回国，加入中国科学院上海光机所，担任研究员。
谈及回国原因时，林楠博士称回国是出于个人原因，ASML有很好的工程师文化，不过他和妻子都是独生子女，家里父母年龄较大，故而希望离家人更近，于是选择回国。
在林楠博士与ASML领导交流回国情况时，ASML领导不想让他离开，并且表示能派林楠博士到中国的ASML分公司工作一阵子。然而林楠博士出于长期因素考虑，委婉地拒绝了领导的这番好意。
在谈到ASML的技术设备以及整个产业链体系能否被中国企业复制的话题时，林楠博士表示，对于像他这样的技术人员而言，若有选择，技术人员通常不会选择做同样的事，也不愿意模仿已开发完成的技术产品。
对于技术人员而言，模仿曾经开发过的技术产品，这是在浪费时间。单纯进行复制，这并非有挑战性的工作。前人已做了诸多事情，此时再来重复做同样的事毫无意义。
如果你打算去做，那就应当采用一种不一样的方式，去开发一个全新的技术产品。
开发中国技术
林楠博士当下正在做的事，和他在访谈里所阐述的理念完全相同。
林楠博士与其研发团队在《激光与光电子学进展》第三期杂志发表了论文，论文内容显示，研发团队提出了一种宽带极紫外光高效产生方案，该方案利用空间束缚激光锡等离子体，此技术方案可应用于先进半导体的高通量量测。
林楠团队开发出全新的技术方案后，基于固态激光器的工作台，对该技术方案进行了测试。固态激光器驱动的LPP-EUV光源能提供功率，此功率可用于EUV技术的曝光验证与掩模检查。
不过该技术方案还不成熟，目前仅能在实验室内测试，1um的固态激光CE最高能达到3.42%，若要实现量产商用，转化效率须提升到5.5%，距离量产商用尚需时日。
林楠博士的技术方案，意味着脱离了ASML原本的二氧化碳激光器，采用一种全新的光源技术，对EUV工艺进行替代 。
ASML收购了美国Cymer（西盟）公司，由此获得了EUV技术的驱动光源，从2019年起，ASML凭借全球供应链体系，成为光刻机产业霸主。
美国针对中国芯片产业实施全面压制，之后向荷兰政府施压，禁止ASML向中国出口EUV光刻机，随后还禁止ASML向中国出口部分先进的DUV光刻机。
这又回到了林楠博士在访谈里讲的内容，前人已开发出产品技术，你再模仿别人只是浪费时间，而且ASML在光刻机产品迭代速度方面进入了快速阶段，等你复制出他们的浸润式DUV设备，人家已进入下一个技术时代了。
与其成为其他企业的追随者，不如直接联合起来，去研发全新的技术产品。
